Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 499 Kč
PPL Parcel Shop 54 Kč
Balík do ruky 74 Kč
Balíkovna 49 Kč
PPL 99 Kč
Zásilkovna 54 Kč
Jak nakupovat
Pomoc
Doručení
PPL Parcel Shop 54 Kč
Balík do ruky 74 Kč
Balíkovna 49 Kč
PPL 99 Kč
Zásilkovna 54 Kč
Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 499 Kč
Nákupní rádce
Jsme tu pro vás!
571 999 090
Můj účet
Staňte se součástí komunity milovníků knih z celého světa a získejte hromadu výhod.
Založit účet zdarma
▸
Prázdný :-(
0
Atomic Layer Deposition
Jazyk
Angličtina
Angličtina
E-kniha
Adobe ePub
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf...
Celý popis
Libristo kód: 39915569
?
583 b
583 b
5 826
Kč
Skladem
Ihned ke stažení
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Informace o knize
Plný název
Atomic Layer Deposition
Autor
Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, Arthur Sherman
Jazyk
Angličtina
Angličtina
Vazba
E-kniha - Adobe ePub
Datum vydání
2013
EAN
9781118747384
Libristo kód
39915569
Nakladatelství
Wiley-Scrivener
