Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 499 Kč
PPL Parcel Shop 54 Balík do ruky 74 Balíkovna 49 GLS 54 Kurýr GLS 64 PPL 99 Zásilkovna 54

Jazyk AngličtinaAngličtina
Kniha Pevná
Kniha Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen
Libristo kód: 04949772
Nakladatelství John Wiley & Sons Inc, června 2013
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Celý popis
? points 633 b
6 333
Skladem u dodavatele Odesíláme za 15-20 dnů

30 dní na vrácení zboží


Mohlo by vás také zajímat


Deutsche Kriegsschiffe Jak P. Mallmann-Showell / Brožovaná
common.buy 280
Handlungskompetenz im Ausland. Jette Katrin Pahlke / Brožovaná
common.buy 856
Design de Superfície Christie Meditsch / Brožovaná
common.buy 1 379
Clustering And Classification Phipps Arabie / Pevná
common.buy 5 671
Contemporary Literary Criticism, Volume 241 Jeffrey W. Hunter / Pevná
common.buy 17 970

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Darujte tuto knihu ještě dnes
Je to snadné
1 Přidejte knihu do košíku a zvolte doručit jako dárek 2 Obratem vám zašleme poukaz 3 Kniha dorazí na adresu obdarovaného

Přihlášení

Přihlaste se ke svému účtu. Ještě nemáte Libristo účet? Vytvořte si ho nyní!

 
povinné
povinné

Nemáte účet? Získejte výhody Libristo účtu!

Díky Libristo účtu budete mít vše pod kontrolou.

Vytvořit Libristo účet