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Die elektrische Degradation von planaren SOFC-Stacks wird stark durch das Anwachsen von Chromoxid haltigen Oxidschichten auf integrierten Interkonnektormaterialien beeinflusst. In dieser Dissertation wird das Degradationsverhalten von vier oft verwendeten Interkonnektorlegierungen unter SOFC-Anodengas relevanten Gaszusammensetzungen in einer Temperaturspanne zwischen 725°C-875°C über Zeitperioden =1000 h getestet und umfassend charakterisiert.