Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 499 Kč
PPL Parcel Shop 54 Kč
Balík do ruky 74 Kč
Balíkovna 49 Kč
PPL 99 Kč
Zásilkovna 54 Kč
Jak nakupovat
Pomoc
Doručení
PPL Parcel Shop 54 Kč
Balík do ruky 74 Kč
Balíkovna 49 Kč
PPL 99 Kč
Zásilkovna 54 Kč
Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 499 Kč
Nákupní rádce
Jsme tu pro vás!
571 999 090
Můj účet
Staňte se součástí komunity milovníků knih z celého světa a získejte hromadu výhod.
Založit účet zdarma
▸
Prázdný :-(
0
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Jazyk
Němčina
Němčina
Kniha
Brožovaná
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vap...
Celý popis
Libristo kód: 02821308
?
122 b
122 b
1 218
Kč
50 % šance
Prohledáme celý svět
Kdy knihu dostanu?
30 dní na vrácení zboží
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition gesehen. Eine während des Heißdraht-CVD-Prozesses an den Drähten ablaufende, unerwünschte Phasenumwandlung führt nach wenigen Stunden Beschichtung zu mechanischem Versagen der Drähte und damit zu einem Prozessabbruch. In dieser Arbeit wurden Lösungen erarbeitet, um den Beschichtungsprozess über Tage hinweg stabil zu betreiben.
Informace o knize
Plný název
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Autor
Artur Laukart
Jazyk
Němčina
Němčina
Vazba
Kniha - Brožovaná
Datum vydání
2013
Počet stran
184
EAN
9783839605288
Libristo kód
02821308
Nakladatelství
Fraunhofer Verlag
Rozměry
148 x 210
