Kontakt
Jak nakupovat
Doručení
Nákupní rádce
Nano-CMOS Gate Dielectric Engineering
Angličtina
459 b
Až 30 dní na vrácení zboží
Zákazníci také koupili
/
Brožovaná
353
Kč
/
Brožovaná
610
Kč
/
Kniha
593
Kč
Covering the physics, materials, devices, and fabrication processes for high-k gate dielectric materials, this text systematically describes how the fundamental electronic structures and other material properties of the transition and rare earth metals affect the electrical properties of the dielectric films, the dielectric/silicon and the dielectric/metal gate interfaces, and the resulting device properties. Specific topics include the problems and solutions encountered with high-k material thermal stability, defect density, and poor initial interface with silicon substrate. The text also addresses the essence of thin film deposition, etching, and process integration of high-k materials in an actual CMOS process.
Informace o knize
Angličtina
Darujte tuto knihu ještě dnes
Je to snadné
1 Přidejte knihu do košíku a zvolte doručit jako dárek 2 Obratem vám zašleme poukaz 3 Kniha dorazí na adresu obdarovanéhoMohlo by vás také zajímat
/
Pevná
8 234
Kč
/
Brožovaná
748
Kč
/
Brožovaná
326
Kč
/
Brožovaná
863
Kč
Ahoj! Jsem Libroamiko, tvůj knižní rádce.
Jak ti můžu pomoct?