Doprava zdarma při nákupu nad 1 499 Kč přes Zásilkovnu nebo PPL Box.

Zjistit stav objednávky

Staňte se součástí komunity milovníků knih z celého světa a získejte hromadu výhod. Založit účet zdarma

Doprava zdarma se Zásilkovnou nad 1 499 Kč

Kurýr DPD 69 Kč Balíkovna 69 Kč PPL kurýr 74 Kč PPL box 39 Kč Zásilkovna 39 Kč Výdejní místo DPD 49 Kč PPL shop 49 Kč Balíkovna 49 Kč

Kontakt

Jak nakupovat

Pomoc

Můj účet

▸ Prázdný

Doprava zdarma při nákupu nad 1 499 Kč přes Zásilkovnu nebo PPL Box.

Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition

Name: Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition
Brand: Springer-Verlag New York Inc.
SKU: 02254672
Price: 3532 CZK
Availability: InStock
Author: J. Mazumder
ISBN: 9781489914323

J. Mazumder

Aravinda Kar

Jazyk

Angličtina

Kniha Brožovaná

Libristo kód: 02254672

Nakladatelství Springer-Verlag New York Inc., červen 2013

In this monograph, the authors offer a comprehensive examination of the latest research on Laser Che... Celý popis

Libristo kód: 02254672

353 b

3 532 Kč

Skladem u dodavatele Odesíláme za 5-8 dnů

Až 30 dní na vrácení zboží

Zákazníci také koupili

Le petit livre de la guérison - Comprendre le sens de nos maladies Brébion

Brožovaná

442 Kč

In this monograph, the authors offer a comprehensive examination of the latest research on Laser Chemical Vapor Deposition (LCVD). Chapters explore the physics of LCVD as well as the principles of a wide range of related phenomena-including laser-matter interactions, heat transfer, fluid flow, chemical kinetics, and adsorption. With this reference, researchers will discover how to apply these principles to developing theories about various types of LCVD processes; gain greater insight into the basic mechanisms of LCVD; and obtain the ability to design and control an LCVD system.