Kontakt
Jak nakupovat
Doručení
Nákupní rádce
CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Angličtina
88 b
30 dní na vrácení zboží
Zákazníci také koupili
To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.
Informace o knize
Angličtina
Darujte tuto knihu ještě dnes
Je to snadné
1 Přidejte knihu do košíku a zvolte doručit jako dárek 2 Obratem vám zašleme poukaz 3 Kniha dorazí na adresu obdarovanéhoMohlo by vás také zajímat
/
Pevná
2 755
Kč
/
Brožovaná
382
Kč
/
Brožovaná
299
Kč
Ahoj! Jsem Libroamiko, tvůj knižní rádce.
Jak ti můžu pomoct?